铪靶

1. 纯度：Hf+Zr≥99.99%，Zr≤0.2%,0.3% & 0.5%

2. 形状：方靶、圆靶，异形定制

3. 应用：引入氧气分压，可以用电溅射或反应溅射铪溅射靶，制备氧化铪薄膜。所得薄膜可用于多种用途，包括用于光子学的光学涂层、薄膜电阻、耐腐蚀性、核产品、集成电路中的栅极绝缘体和传感器。

铪技术参数